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SEMICON上海邀約 | 大立先進過濾技術護航半導體制造與創新

更新時間:2026-03-16瀏覽:59次

 

 

  SEMICON
 
  新一輪科技革命和產業變革加速演進,AI加速機器人智慧化、量子科技多點突破、腦機接口邁入臨床應用新階段,前沿創新場景不斷涌現。2025 年,我國人工智能核心產業規模突破1.2 萬億元,企業數量超6200 家。半導體作為數字經濟與先進制造的核心算力基石,已然成為全球科技競爭與產業安全的關鍵戰略高地。
 
  2026 年作為 “十五五” 開局之年,全國會議明確提出加快高水平科技自立自強,發揮新型舉國體制優勢,全鏈條推動集成電路等關鍵核心技術攻關,打造新興支柱產業,推動科技創新與產業創新深度融合,著力發展新質生產力。
 
  在此背景下,中國半導體產業迎來政策加持、場景開放、資金加碼的戰略機遇期,正朝著自主可控、生態完善的方向加速邁進。
 
  作為深耕過濾技術的創新型企業,大立過濾將重磅亮相SEMICON China 2026,全面展示覆蓋半導體核心工藝制程和使用點位的過濾解決方案:光刻(Litho)、濕法刻蝕與清洗(WEC)、化學機械研磨(CMP)和脫氣與溶氣等。
 
  我們將于3 月 25 日–27 日,在上海新國際博覽中心 N2 館 2738 展位恭候您的蒞臨,與行業同仁共探先進過濾技術,助力客戶提升產品良率,為半導體制造與創新保駕護航。

 

 

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大立過濾在N2-2738等候您蒞臨參觀與指導

 

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